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Question ID = 0060

Assigned Member (担当者)

2007-07-12 A.Bamba
2007-07-24 Y.Terada

Name and Institute (質問者/機関)

粟木久光/愛媛大学

Question (質問)

SCIのデータを解析しようと思っています。「すざく」のホームページに 「Provisional method to analyze the XIS data with SCI」が 掲載されており、これに従って解析を試みています。この手順の中のarf作成で一つ教えて下さい。

この手順書では、電荷注入されたrawの前後のpixelをmaskするために、
  1. detxyでregion fileで選んだ領域のimageを作る。
  2. そのimageからcut3rawを除いたimage file (fits)を作成する
  3. (2)で作成したimage fileをregion fileとして使用する
という手順を踏んでいます。この手順は結構面倒です。

例えば、もう少し簡単に、次のような方法は可能なのでしょうか？
  1. cut3rawのfits imageを準備しておき、
  2. これを xissimarfgenのdetmaskとして読み込む。
  3. 他は、sciなしと同様とする。

この方法が可能だと、detmaskを指定する以外、sci無しと arf作成の手順が変わらなく なるように思えます。

Answer from(回答の文責)

XIS team, 首都大 石崎氏

Answer (答え)

ヘルプデスク内部ででも、image FITS ではなく ASCII の region file 等で、 切り出すだけでもうまくいく、etc... を議論しましたが、 V2.0 process 用 tool HEADAS 6.3 がリリースされた今、 SCI 対応の XIS tools を使用するのがよかろう、という結論です。

基本的には、上記のやり方で問題ないです。

ただし、すでに HEAsoft 6.3 で SCI 対応の XIS ftools および CALDB がリリースされてますので、上記の web page に従った やり方はもう古いのでお勧めできません。

新しい XIS ftools を使う場合は、
  1. xisexpmapgen で detmask 用のイメージを作成して それを xissimarfgen に与える
  2. xissimarfgen に phafile=ファイル enable_pixq=yes [default] を指定して、自分で detmask を計算させる
の2種類の方法を取ることが出来ます。通常、bad column なども 同時に積分領域から除かれます。

Status （詳細なステータス）

2007-07-12 Accept
2007-07-24 Circulate to the XIS help
2007-07-24 Done.
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